一、產(chǎn)品名稱：石墨烯濕法進(jìn)口分散機,石墨烯粉體改性進(jìn)口分散機,石墨烯研磨分散機,石墨烯高剪切管線式分散機,石墨烯制備不沉淀分散機,石墨烯粉體分散機,石墨烯濕法加工分散機

引句：石墨烯具有*的二維結(jié)構(gòu)和優(yōu)異的物理化學(xué)性能，在材料科學(xué)、電子科學(xué)、生物醫(yī)藥、催化劑載體等領(lǐng)域有著巨大的應(yīng)用前景，受到了廣泛的關(guān)注。然而，石墨烯相互間存在較強的范德華作用力使其不能再溶劑中穩(wěn)定分散，與其他材料的相容性也不好，容易再次層疊在一起難以打開，這是制約石墨烯研究和應(yīng)用的一個主要障礙。因此，對石墨烯進(jìn)行改性以提高其在溶劑中的分散性與其他材料的相容性，具有十分重要的理論和現(xiàn)實意義。

二、石墨烯制備方法：

1. 目前按照制備石墨烯分散液的前驅(qū)體不同，方法大致可分為二種：

①：以石墨粉為原料直接在液體相中剝離制備石墨烯分散液。這種方法主要是將石墨烯片剝離到幾百個納米粒徑的薄片，利用分散液的表面能和石墨烯表面能想接近，使得其均勻分散在溶劑中，這種方法能夠保持石墨烯的優(yōu)異導(dǎo)電熱性能，但石墨烯很難以高濃度分散在溶劑中。

②：以還原氧化石墨為原料，還原氧化石墨表面含有很多極性基團(tuán)，通過改性修飾這些極性基團(tuán)，可以將石墨烯分散在水和有機溶劑中。這種制備方法的優(yōu)點是石墨烯能夠在溶劑中保持高濃度穩(wěn)定分散,制備成的石墨烯分散液還可能有其他新的應(yīng)用，但是此法制備的石墨烯分散液片層缺陷較大，難以保持石墨烯原有的高導(dǎo)電性能。

2.石墨烯制備方法多種多樣，石墨烯制備方法可以分為物理和化學(xué)制備方法。物理的方法主要是采取機械剝離的方法，化學(xué)方法主要是分為化學(xué)沉積和化學(xué)合成兩大方向。

3.氧化還原法：

通過將石墨氧化，增大石墨層之間的間距，再通過物理方法將其分離，ZUI后通過化學(xué)法還原，得到石墨烯的方法。這種方法操作簡單，產(chǎn)量高，但是產(chǎn)品質(zhì)量較低。

4.機械剝離法：

利用物體與石墨烯之間的摩擦和相對運動，得到石墨烯薄層材料的方法。這種方法操作簡單，得到的石墨烯通常保持著完整的晶體結(jié)構(gòu)。

三、石墨烯粉體分散需要解決的問題：在石墨烯粉體通過濕法工藝的制備過程中，通過石墨烯分散劑，既不損害石墨烯結(jié)構(gòu)與性能的高效分散方法。

1. 石墨烯分散的挑戰(zhàn)性首先源于對石墨烯深度分散的必然要求，將石墨烯分散到單片或初級粒子狀態(tài)；

2. 源于石墨烯對通過化學(xué)改性實現(xiàn)分散這一手段的低容忍性甚至抵觸性；化學(xué)改性，勢必干擾或一定程度上破壞TT-TT的完整性，從而降低或失去本征態(tài)石墨烯的優(yōu)異性能；

3. 源于石墨烯本身既不親水又不親油的結(jié)構(gòu)特征；一般的分散劑分子又較難與石墨烯形成較強的物理吸附作用，所以使用表面活性分散石墨烯的物理手段也將受限；

4. 源于石墨烯的TT-TT結(jié)構(gòu)和強的范德華力，使石墨烯極易團(tuán)聚，而且團(tuán)聚體難以再分開；

5. 還源于石墨烯高的長徑比和比表面積；

6. 石墨烯的分散還面臨著實際生產(chǎn)操作性方面的難題。例如：4%濃度的水型石墨烯漿料已是膏態(tài)，不具有流動性，這為生產(chǎn)過程中物料傳輸、分散和化學(xué)反應(yīng)造成了困難。

四、上海SGN/思峻石墨烯濕法研磨分散機的分散原理：

石墨烯分散劑集分散、解聚、潤濕為一體，能夠吸附在石墨烯表面并產(chǎn)生靜電斥力使之分散，避免沉降返粗。在調(diào)漿時加入可以使疏水材料均勻分散在水中，提升研磨的效率和質(zhì)量。在漿料的研磨過程中加入能迅速降低漿料的粘度，增加分散性、流動性，分散后漿料粘度穩(wěn)定，不分層，不會二次團(tuán)聚反粗。

五、石墨烯的分散在重防腐涂料中的應(yīng)用：

均勻分散的石墨烯在樹脂中分散效果良好，無團(tuán)聚現(xiàn)象且石墨烯均勻無規(guī)則的排列在樹脂基體中，研究結(jié)果表明，上海思峻石墨烯濕法研磨分散機處理后的石墨烯可高效的分散在環(huán)氧樹脂、聚氨酯樹脂等涂料樹脂中，明顯提高樹脂基本體的防護(hù)性能。值得一提的是，石墨烯分散狀態(tài)及含量與涂料整體防護(hù)性能有重要關(guān)系。若石墨烯分散不均勻，石墨烯不僅起不到好的作用，還可能形成水汽通道,加速涂層的腐蝕失效。

六、上海SGN/思峻石墨烯濕法分散機特點：

1. GMSD2000系列高剪切研磨分散機，采用膠體磨+分散機一體化的結(jié)構(gòu)，二級模塊處理，先研磨后分散，打開石墨烯的聚集體，然后再瞬間充分均勻的分散，一般石墨烯分散后，粒徑可達(dá)DN90 10μm左右。

2. GMSD2000系列高剪切研磨分散機，主軸轉(zhuǎn)速高達(dá)18000rmp/min，線速度50m/s，具有很高的剪切力，為分散提拱了強大的動力基礎(chǔ)。

3. GMSD2000系列高剪切研磨分散機，采用線性結(jié)構(gòu)，設(shè)備產(chǎn)量從小到大，從每小時幾升到每小時幾噸的生產(chǎn)要求都能滿足，設(shè)備線性放大，小型和大型設(shè)備效果可保持*。

七、SGN/思峻石墨烯濕法分散機型號參數(shù)表：

 設(shè)備等級：化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級 
　　電機形式：普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、 
　　電源選擇：380V/50Hz、220V/60Hz、440V/50Hz 
　　電機選配件：PTC　熱保護(hù)、降噪型 
　　均質(zhì)機材質(zhì)：SUS304、SUS316L、SUS316Ti 
　　均質(zhì)機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車 
　　均質(zhì)機表面處理：拋光、耐磨處理 
　　進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍 
　　乳化機選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器 
　　分散均質(zhì)機高剪切分散均質(zhì)機，實驗室均質(zhì)機 
　　應(yīng)用于：奶油、化妝品、牙膏、果汁、洗滌劑、漿糊、鹽溶液、催化劑、涂漆、聚合物乳化液、農(nóng)藥（除草劑、殺蟲劑）。

GMSD2000 研磨分散機參數(shù)表

SGN高剪切研磨分散機選型表：

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